大家都知道鍍膜玻璃的生產方法很多，主要有真空磁控濺射法、真空蒸發法、化學氣相沉積法以及溶膠-凝膠法等。今天來講講鍍膜方法的其中一種："真空磁控濺射法"。

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真空鍍膜，是一種由物理方法產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。

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真空玻璃又可以分為蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍等

蒸發鍍膜：是通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面

濺射鍍膜：是用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面

離子鍍：蒸發物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面

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真空鍍膜特點：

蒸發鍍膜：其特點是在真空條件下，材料蒸發并在玻璃表面上凝結成膜，再經高溫熱處理后，在玻璃表面形成附著力很強的膜層。蒸發鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質和不易熱分解的化合物膜。

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濺射鍍膜：“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現象。射出的粒子大多呈原子狀態，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。

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離子鍍：將蒸發法與濺射法相結合，即為離子鍍。這種方法的優點是得到的膜與基板間有極強的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。